精选公开：宁波保护气体配送(2023更新成功)(今日/服务)

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精选公开：宁波保护气体配送(2023更新成功)(今日/服务)， 丁烯（全氟丁烯，C4F6）丁烯又称全氟丁烯，初合成出来是作为聚合物的单体，但是其聚合物的性能不佳，没有得到进 一步的研究和应用。近年对丁烯的应用研究则主要集中在它作为电子蚀刻气体上。丁烯和氟环戊烯(C5F8)作为下一代蚀刻气体，被认为具有竞争优势，尤其是 C4F6，它可取代 CF4 用于 KrF 激光锐利蚀刻半导体电容器图形的干工艺。C4F6在先进制程技术层面有诸多蚀刻上的优点：它具有高选择性和性、各向异性，适合对 100 nm 以下的电子线路进行蚀刻，性能较全氟碳气体和 NF3更好；C4F6 与 C4F8相比也具有更高的对光阻和氮化硅选择比，这是很重要的两个优点；此外环境方面也是一个非常重要的 因素，C4F6的全球变暖潜能值(GWP)几乎为 0。有关专家指出，到目前为止，C4F6 可能是能提供所需蚀刻 条件及减少排放的替代物

目前国内半导体级乙烷生产商主要包括华特股份和中船重工 718 所，两者现有产能分别为 50 吨， 新增产能分别为 100 和 60 吨，其中华特股份新增产能为科创板募投项目，中船重工 718 所新增产能于 2018 年 12 月环评公告。此外，华安新材料具备乙烷产能 300 吨，但主要为制冷剂产品。此外巨化股份参股博 瑞电子拟建 55 吨乙烷产能，2019 年 2 月环评公告。氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积（CVD）装置的清洗。氟化氮可以单独或与其它气体组 合，用作等离子体工艺的蚀刻气体，例如，NFNF3/Ar、NF3/He 用于硅化合物 MoSi2的蚀刻；NF3/CClNF3/HCl 既用于 MoSi2的蚀刻，也用于 NbSi2的蚀刻。

精选公开：宁波保护气体配送(2023更新成功)(今日/服务)， 纯度要求极高，纯化、杂质检测、储运技术面临全方位考验 电子特气产业本身主要可分为合成和提纯两大部分，由于 IC 生产工艺和技术的不断进步，芯片尺寸的逐渐 提升，工艺逐步提升，特点尺寸线宽慢慢降低，需要 IC 制程使用的一些电子气体品质较高、指定技术指标逐渐 完善，对核心杂质的需求也更加严格。就算是其中的一种特殊杂质不满足要求，都会使得 IC 品质有很大问题， 变为次品或者废品，甚至会因为不满足要求的气体扩散，使得整条生产线出现污染。如果有金属杂质，会使得 正电荷或氧化硅表面出现跃迁，使得 IC 特性出现变化，而且会导致器件逐步失去作用，减少它的使用周期， 对元件的可信度带来作用，有粒子时，也会导致表面出现问题，很大程度的对工作稳定性带来影响，严重 的会失去作用。

除环保因素外，先进制程工艺也对刻蚀气体提出了越来越高的要求：在先进制程、高深宽比的工艺制程中， 通常使用不饱和全氟烯烃，如丁烯和氟环戊烯替代传统的全氟烷烃及 NF3，因为丁烯和氟环 戊烯刻蚀选择性、性及各向异性性能更为优异。